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隨著社會(huì)的發(fā)展及技術(shù)的需要，工業(yè)生產(chǎn)對(duì)生產(chǎn)材料的要求也不斷增強(qiáng)，如在微電子封裝工藝中，電子設(shè)備的小型化、高精度，對(duì)封裝工藝的可靠性提出了相應(yīng)的要求，高質(zhì)量的封裝技術(shù)可以提高電子產(chǎn)品的使用壽命。等離子清洗機(jī)是利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法...
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等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團(tuán)電離產(chǎn)生的離子化氣體狀物質(zhì)，具有比氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)物質(zhì)都高的能量范圍，被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體，在與材料表面撞擊時(shí)會(huì)將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子...
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石墨消解儀具有消解快速、方便等優(yōu)點(diǎn)，適用于農(nóng)業(yè)、林業(yè)、環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)以及高等院校、科研部門(mén)對(duì)土壤、食品飼料、植株、種子、礦石等化學(xué)分析之前的樣品消解處理。石墨消解儀的核心部件是一塊預(yù)先制作了若干孔位的石墨塊，石墨塊上預(yù)制...
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高壓消解罐又叫水熱合成反應(yīng)釜，是化學(xué)實(shí)驗(yàn)室常用的小型高壓消解反應(yīng)器。主要用于快速消解難溶樣品，也可用于少量的合成反應(yīng)。在密閉環(huán)境中，樣品在強(qiáng)酸強(qiáng)堿和高溫高壓同時(shí)作用下達(dá)到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內(nèi)高溫高壓密封體系(強(qiáng)酸或強(qiáng)堿)的...
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勻膠旋涂?jī)x一般包括托盤(pán)安裝于腔室內(nèi)部，用于吸附基片；噴嘴，延伸入腔室內(nèi)部，用于將去離子水、有機(jī)溶劑或光刻膠噴射到基片上；微波發(fā)生裝置，安裝于腔室側(cè)壁，用于產(chǎn)生微波對(duì)基片提供熱量；溫控系統(tǒng)，安裝于腔室上壁，用于控制微波發(fā)生裝置以設(shè)定微波加熱的...
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勻膠旋涂?jī)x操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，占地空間小，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。可用于實(shí)驗(yàn)室項(xiàng)目建設(shè).作為用于除半導(dǎo)體外,還有硅片、芯片、基片、導(dǎo)電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學(xué)之用。勻膠旋涂?jī)x的使用注意事項(xiàng)：1.使用前主要檢查設(shè)備與真空...
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紫外臭氧清洗機(jī)提供一種簡(jiǎn)單，經(jīng)濟(jì),快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。作用是通過(guò)紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機(jī)物氧化祛除，以達(dá)到清潔的效果。同時(shí)改變了襯底表面的親疏水性...
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勻膠旋涂?jī)x的運(yùn)行可以按基片旋轉(zhuǎn)速度及膠質(zhì)的變化，分為4個(gè)階段：滴膠，加速旋轉(zhuǎn)，勻速旋轉(zhuǎn)以及去邊，其中第3階段勻速旋轉(zhuǎn)階段是膠質(zhì)涂層厚度和均勻性控制的重要階段。在滴膠前，膠質(zhì)需經(jīng)過(guò)亞微米級(jí)別的過(guò)濾處理，否則薄膜有可能形成彗星圖，星狀圖，或產(chǎn)生...
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